天津不锈钢指状梳状微间距掩膜板 微距mask 小批量定制

北华诺恒宇光能科技有限公司，生产定制各种：点矩阵掩模版,密集孔圆点矩阵mask,密集孔圆点矩阵掩模板,密集孔圆点矩阵掩膜板,密集孔指状梳状微间距掩膜版,密集孔指状梳状微间距掩模版,密集孔指状梳状微间距mask,密集孔指状梳状微间距掩模板,密集孔指状梳状微间距掩膜板,密集孔梳形掩膜版,密集孔梳形掩模版,密集孔梳形mask,密集孔梳形掩模板,密集孔梳形掩膜板,密集孔蒸镀掩膜版,密集孔蒸镀掩模版,密集孔蒸镀mask,密集孔蒸镀掩模板,密集孔蒸镀掩膜板,密集孔溅射叉指掩膜版,密集孔溅射叉指掩模版,密集孔溅射叉指mask,密集孔溅射叉指掩模板,密集孔溅射叉指掩膜板,密集孔叉指电极掩膜版,密集孔叉指电极掩模版,密集孔叉指电极mask,密集孔叉指电极掩模板,密集孔叉指电极掩膜板,密集孔镀膜掩膜版,密集孔镀膜掩模版,密集孔镀膜mask,密集孔镀膜掩模板,密集孔镀膜掩膜板,密集孔实验用掩膜版,密集孔实验用掩模版,密集孔实验用mask,密集孔实验用掩模板,密集孔实验用掩膜板,
光刻掩膜版（又称光罩，英文为Mask Reticle），简称掩膜版，是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构，再通过曝光过程将图形信息转移到产品基片上。
待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、铬层和光刻胶层构成。其图形结构可通过制版工艺加工获得，常用加工设备为直写式光刻设备，如激光直写光刻机、电子束光刻机等。
掩膜版应用十分广泛，在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版，如IC（Integrated Circuit，集成电路）、FPD（Flat Panel Display，平板显示器）、PCB（Printed Circuit Boards，印刷电路板）、MEMS（Micro Electro Mechanical Systems，微机电系统）等。

我公司是一家高投入、高起点的私营企业，工厂成立于2002年，地处于北京丰台区南三环玉泉营，先后在北京昌平、天津滨海新区，建立分公司。交利，各项配套十分完善。
公司目前的业务方向定位于的精密金属零件加工市场，目标是成为中国的精密金属零件供应商。为工业向国际技术推进而供献自己的力量!
公司坚持在深化管理的技术改革中发展、以：“客户至上、以品质至胜、持续改进、追求”为方针，不断的引进，推广新的管理与生产技术。
公司以：“技术、品质、反应、交货。成本”为理念。为客户提供设计、制作，产品加工过程等服务，限度的让客户满意，与客户携手共进，共创辉煌。
加工能力
小加工厚度：0.02
小加工宽度：0.01

掩膜板 产品功能加工特点
掩膜板特定产品材料材质:SUS304不锈钢，SUS316不锈钢，铜，及厚度 (公制):0.1,0.15,0.18,0.2,0.25,0.3，0.4.等
此款产品用途:掩膜板主要用于学校、科研所实验。
此款产品特点:掩膜板孔线条均均，剌，无缺口，不会出现大小孔的现像，针对激光精密切割产品，我们有的技术攻关团队，可以很好的帮助客户解决相应问题。

华诺普锐斯公司是一家集从事金属精密加工、生产及销售制造商！公司专注于生产精密五金、IT产品配件、打印机配件、汽车配件、电器配件及工艺品产品的加工，公司产品取得了客户的一致认可, 如:联想、华为、中兴、BYD、富士康、美泰、东芝、TCL、**、美的、飞利浦等大客户的认可。
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光学掩模板在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并定位，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。掩膜版应用十分广泛，在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版，如IC（Integrated Circuit，集成电路）、FPD（Flat Panel Display，平板显示器）、PCB（Printed Circuit Boards，印刷电路板）、MEMS（Micro Electro Mechanical Systems，微机电系统）等。
华诺激光 掩膜板个性定制加工事业部，将竭诚为您服务。
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